|
A62.4510 |
A62.4511 |
Modo de trabalho |
Modo de contato Modo de toque
[Opcional] Modo de atrito Modo de Fase Modo magnético Modo eletrostático |
Modo de contato Modo de toque
[Opcional] Modo de atrito Modo de Fase Modo magnético Modo eletrostático |
Curva do Espectro Atual |
Curva RMS-Z Curva de Força FZ |
Curva RMS-Z Curva de Força FZ |
Modo de varredura XY |
Escaneamento acionado por sonda, Scanner de tubo piezoelétrico |
Escaneamento acionado por amostra, estágio de escaneamento de deslocamento piezoelétrico de circuito fechado |
Faixa de varredura XY |
70×70um |
Circuito Fechado 100×100um |
Resolução de digitalização XY |
0,2 nm |
Circuito Fechado 0,5nm |
Modo de digitalização Z |
|
Varredura orientada por sonda |
Faixa de varredura Z |
5um |
5um |
Resolução de digitalização Z |
0,05 nm |
0,05 nm |
Velocidade de digitalização |
0,6Hz~30Hz |
0,6Hz~30Hz |
Ângulo de varredura |
0~360° |
0~360° |
Peso da amostra |
≤15Kg |
≤0,5Kg |
Tamanho do Palco |
Diâmetro 100mm
[Opcional] Diâmetro 200mm Diâmetro 300mm |
Diâmetro 100mm
[Opcional] Diâmetro 200mm Diâmetro 300mm |
Estágio XY em Movimento |
100x100mm, Resolução 1um
[Opcional] 200x200mm 300x300mm |
100x100mm, Resolução 1um
[Opcional] 200x200mm 300x300mm |
Estágio Z em Movimento |
15mm, resolução 10nm [Opcional] 20 mm 25mm |
15mm, resolução 10nm [Opcional] 20 mm 25mm |
Design de Absorção de Choque |
Suspensão de mola
[Opcional] Amortecedor Ativo |
Suspensão de mola
[Opcional] Amortecedor Ativo |
Sistema óptico |
Objetivo 5x Câmera Digital de 5,0 M
[Opcional] Objetivo 10x Objetivo 20x |
Objetivo 5x Câmera Digital de 5,0 M
[Opcional] Objetivo 10x Objetivo 20x |
Resultado |
USB 2.0/3.0 |
USB 2.0/3.0 |
Programas |
Ganhe XP/7/8/10 |
Ganhe XP/7/8/10 |
Corpo Principal |
Cabeça de varredura de pórtico, base de mármore |
Cabeça de varredura de pórtico, base de mármore |