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Controled Mouse Scanning Electron Microscope Sem 1x~600000x Magnification A63.7080

Microscópio eletrônico de varredura com mouse controlado Sem 1x~600000x Magnificação A63.7080

Produtos - Microscópio de exploração
  • Destacar

    microscópio de elétron controlado sem da exploração do rato

    ,

    microscópio de elétron sem da exploração da ampliação 800000x

  • Resolução
    1,5nm@15KV(SE); 3nm@20KV(BSE)
  • Ampliação
    1x~600000x
  • Arma de elétron
    Arma de elétrons de emissão Schottky
  • Tensão de aceleração
    0~30KV
  • Diâmetro máximo da amostra
    175 mm
  • Estágio de amostra
    Estágio motorizado eucêntrico de cinco eixos
  • Lugar de origem
    China
  • Marca
    OPTO-EDU
  • Certificação
    CE, Rohs
  • Número do modelo
    A63.7080
  • Documento
    Folheto PDF do produto
  • Quantidade de ordem mínima
    1 pc
  • Preço
    FOB $1~1000, Depend on Order Quantity
  • Detalhes da embalagem
    Embalagem da caixa, para o transporte da exportação
  • Tempo de entrega
    5 ~ 20 dias
  • Termos de pagamento
    T/T, West Union, PayPal
  • Habilidade da fonte
    mês de 5000 PCes

Microscópio eletrônico de varredura com mouse controlado Sem 1x~600000x Magnificação A63.7080

  • Controled Mouse Scanning Electron Microscope Sem 1x~600000x Magnification A63.7080
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A63.7080, A63.7081 Função principal do software
Instalação integrada de alta tensão Filamento automático ligado / desligado Regulação de turnos potenciais
Ajuste de brilho Ajuste elétrico para central Brilho automático
Ajuste de contraste Ajuste da lente Foco automático
Ajuste de ampliação Desgaussagem objectiva Eliminação automática do astigmatismo
Modo de varredura da área selecionada Ajuste elétrico da rotação Gestão dos parâmetros do microscópio
Modo de varredura pontual Ajuste do deslocamento do feixe de elétrons Exibição em tempo real do tamanho do campo de digitalização
Modo de digitalização de linha Ajuste da inclinação do feixe de elétrons Ajuste da lente da arma
Análise de superfície Ajuste da velocidade de digitalização Entrada multicanal
Monitorização da potência de alta tensão Centrais de balanço Medição da régua


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SEM A63.7069
A63.7069-L
A63.7069-LV		 A63.7080
A63.7080-L		 A63.7081
Resolução 3nm@30KV ((SE)
6nm@30KV ((BSE)		 1.5nm@30KV ((SE)
3nm@30KV ((BSE)		 1.0nm@30KV(SE)
3.0nm@1KV(SE)
2.5nm@30KV ((BSE)
Magnificação 1x~450000x,Magnificação verdadeira negativa 1x~600000x, Magnificação verdadeira negativa 1x~3000000x Magnificação verdadeira negativa
Arma de elétrons Cartucho de filamento de tungstênio pré-centrado Pistola de emissões de campo Schottky Pistola de emissões de campo Schottky
Voltagem Tensão de aceleração 0.2- Não.30 kV, ajustável contínuo, passo de ajuste 100V@0-10Kv, 1KV@10-30Kv
Visualização rápida Função de visualização rápida de imagem de uma chave N/A N/A
Sistema de lentes Lente de três níveis com lentes cónicas eletromagnéticas Lentes de múltiplos níveis com forma cónica eletromagnética
Apertura 3 Aperturas de objetos de molibdênio, ajustáveis fora do sistema de vácuo, sem necessidade de desmontar o objetivo para mudar a abertura
Sistema de vácuo 1 Bomba Turbo Molecular
1 Bomba mecânica
Vazio da sala de colheita> 2,6 E-3 Pa
Espaço de vácuo da arma de elétrons> 2,6E-3Pa
Controle de vácuo totalmente automático
Função de bloqueio a vácuo

Modelo opcional: A63.7069-LV
1 Bomba Turbo Molecular
2Bombas mecânicas
Vazio da sala de colheita> 2,6 E-3 Pa
Espaço de vácuo da arma de elétrons> 2,6E-3Pa
Controle de vácuo totalmente automático
Função de bloqueio a vácuo
Vazio baixoIntervalo 10 ~ 270Pa para comutação rápida em 90 segundos para BSE ((LV)		 1 Conjunto de bombas iónicas
1 Bomba Turbo Molecular
1 Bomba mecânica
Vazio da sala de colheita> 6E-4Pa
Espaço de vácuo da arma de elétrons> 2E-7 Pa
Controle de vácuo totalmente automático
Função de bloqueio a vácuo		 1 Bomba de íons de pulverização
1 Bomba de compostos iônicos Getter
1 Bomba Turbo Molecular
1 Bomba mecânica
Vazio da sala de colheita> 6E-4Pa
Espaço de vácuo da arma de elétrons> 2E-7 Pa
Controle de vácuo totalmente automático
Função de bloqueio a vácuo
Detector SE: Detector secundário de elétrons de vácuo elevado (com proteção do detector) SE: Detector secundário de elétrons de vácuo elevado (com proteção do detector) SE: Detector secundário de elétrons de vácuo elevado (com proteção do detector)
BSE: Segmentação de semicondutores 4
Detector de dispersão de retorno		 Opcional Opcional
Modelo opcional: A63.7069-LV
BSE ((LV): Semicondutores 4 Segmentação
Detector de dispersão de retorno		 　 　
CCD:Câmara CCD infravermelha CCD:Câmara CCD infravermelha CCD:Câmara CCD infravermelha
Extensão da porta 2 Estender portas no espaço de amostragem
EDS, BSD, WDS, etc.		 4 Extender portas no espaço de amostragem para
BSE, EDS, BSD, WDS, etc.		 4 Extender portas no espaço de amostragem para
BSE, EDS, BSD, WDS, etc.
Fase de colheita de espécimes 5 eixos Fase, 4Auto+ 1ManualControle
Período de viagem:
X = 70 mm, Y = 50 mm, Z = 45 mm,
R=360°, T=-5°~+90° ((Manual)
Toque na função de alerta e parada

Modelo opcional:
A63.7069-L5 eixos Auto Large Stage		 5 EixosAuto MédioEstágio
Período de viagem:
X=80mm, Y=50mm, Z=30mm,
R=360°, T=-5°~+70°
Toque na função de alerta e parada

Modelo opcional:
A63.7080-L5 EixosAuto GrandesEstágio		 5 EixosAuto GrandesEstágio
Período de viagem:
X=150mm, Y=150mm, Z=60mm,
R=360°, T=-5°~+70°
Toque na função de alerta e parada
Exemplar máximo Dia. 175mm, altura 35mm Dia. 175 mm, altura 20 mm Dia.340 mm, altura 50 mm
Sistema de imagem Imagem estática real com resolução máxima de 4096x4096 pixels.
Formato de ficheiro de imagem: BMP ((Default), GIF, JPG, PNG, TIF		 Imagem Imóvel Real Resolução máxima 16384x16384 pixels,
Formato de ficheiro de imagem: TIF ((Default), BMP, GIF, JPG, PNG
Vídeo: Auto Registro Digital. AVI Vídeo		 Imagem Imóvel Real Resolução máxima 16384x16384 pixels,
Formato de ficheiro de imagem: TIF ((Default), BMP, GIF, JPG, PNG
Vídeo: Auto Registro Digital. AVI Vídeo
Computador e Software PC Work Station Win 10 System, com software de análise de imagem profissional para controlar totalmente toda a operação do microscópio SEM, especificação do computador não inferior a Inter I5 3.2GHz, memória 4G,Monitor LCD IPS de 24", 500G Hard Disk, Mouse, teclado
Exibição de fotos O nível de imagem é rico e meticuloso, mostrando ampliação em tempo real, régua, tensão, curva cinzenta
Dimensão
& Peso		 Corpo do microscópio 800x800x1850mm
Tabela de trabalho 1340x850x740mm
Peso total 400 kg		 Corpo do microscópio 800x800x1480mm
Tabela de trabalho 1340x850x740mm
Peso total 450 kg		 Corpo do microscópio 1000x1000x1730 mm
Tabela de trabalho 1330x850x740mm
Peso total 550 kg
Acessórios opcionais
Acessórios opcionais A50.7002Espectrômetro de raios-X dispersivo de energia EDS
A50.7011Revestimento por pulverização de íons		 A50.7001Detector de elétrons de espalhamento de volta da EEB
A50.7002Espectrômetro de raios-X dispersivo de energia EDS
A50.7011Revestimento por pulverização de íons
A50.7030Painel de controlo motorizado		 A50.7001Detector de elétrons de espalhamento de volta da EEB
A50.7002Espectrômetro de raios-X dispersivo de energia EDS
A50.7011Revestimento por pulverização de íons
A50.7030Painel de controlo motorizado

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A50.7001 Detector de EEB Detector de retrodispersão de quatro segmentos de semicondutores;
Disponível nos ingredientes A+B, Informações morfológicas A-B;
Observação de amostras disponíveis sem pulverizar ouro;
Disponível em Impuridade Observada e Distribuição a partir do mapa de escala de cinzas diretamente.
A50.7002 EDS (Detector de Raios X) Fonte de nitreto de silício (Si3N4) para otimizar a transmissão de raios-X de baixa energia para análise de elementos leves;
Excelente resolução e sua eletrônica avançada de baixo ruído proporcionam um desempenho de transferência excepcional;
A pequena pegada oferece flexibilidade para garantir a geometria ideal e as condições de recolha do AATA;
Os detectores contêm um chip de 30 mm2.
A50.7003 EBSD (difração de feixe de elétrons de retrodispersão) O utilizador pode analisar a orientação cristalina, a fase cristalina e a micro textura dos materiais e o desempenho dos materiais relacionados, etc.
Optimização automática das configurações da câmara EBSD
durante a recolha de dados, fazer análises interativas em tempo real para obter o máximo de informações
Todos os dados foram marcados com uma etiqueta de tempo, que pode ser visualizada a qualquer momento
alta resolução 1392 x 1040 x 12
Velocidade de digitalização e índice: 198 pontos/seg, com Ni como padrão, sob a condição de 2~5nA, pode garantir a taxa de índice ≥99%;
Funciona bem sob a condição de baixa corrente de feixe e baixa tensão de 5kV a 100pA
Precisão de medição da orientação: Melhor que 0,1 graus
Usando sistema de índice triplex: não é necessário depender da definição de banda única, fácil indexação de má qualidade de padrão
Base de dados dedicada: Base de dados especial do EBSD obtida por difração de elétrons: > 400 estruturas de fase
Capacidade de indexação: pode indexar automaticamente todos os materiais cristalinos de 7 sistemas cristalinos.
As opções avançadas incluem o cálculo da rigidez elástica (Elastic Stiffness), factor Taylor (Taylor), factor Schmidt (Schmid) e assim por diante.
A50.7010 Máquina de revestimento Concha de vidro protetora: ¥250 mm; 340 mm de altura;
Câmara de processamento de vidro:
88mm; 140mm Alto; 88mm; 57mm Alto;
Dimensão do estágio da amostra: 40 mm (máximo);
Sistema de vácuo: bomba molecular e bomba mecânica;
Detecção de vácuo: Pirani Gage;
Vazio:melhor do que 2 x 10-3 Pa;
Protecção contra vácuo:20 Pa com válvula de inflação em microscala;
Movimento do espécime: rotação do plano, precessão da inclinação.
A50.7011 Revestimento por pulverização de íons Câmara de processamento de vidro: ¥100 mm; 130 mm de altura;
Dimensão do estágio da amostra: 40 mm (contém 6 copos de amostra);
Ouro de alvo Tamanho: 58mm * 0,12mm (espessura);
Detecção de vácuo: Pirani Gage;
Protecção contra vácuo:20 Pa com válvula de inflação em microscala;
Gás Médio:Argão ou Ar com entrada de ar especial de gás de argão e regulação de gás em microescala.
A50.7012 Revestimento de pulverização de íons de argão A amostra foi revestida com carbono e ouro sob alto vácuo;
Tabela de amostragem giratória, revestimento uniforme, tamanho de partícula cerca de 3-5 nm;
Sem selecção do material alvo, sem danos às amostras;
As funções de limpeza de íons e diluição de íons podem ser realizadas.
A50.7013 Secador de ponto crítico Diâmetro interno: 82 mm, comprimento interno: 82 mm;
Intervalo de pressão: 0 a 2000 psi;
Intervalo de temperatura: 0°-50° C (32°-122° F)
A50.7014 Litografia por feixe de elétrons Com base no microscópio eletrônico de varredura, foi desenvolvido um novo sistema de nanoexposição;
A modificação manteve todas as funções sem para fazer imagem de largura de linha em nanoescala;
O sistema Ebl modificado é amplamente aplicado em dispositivos microeletrônicos, dispositivos optoeletrônicos, dispositivos quânticos, P&D de sistemas microeletrônicos.

Microscópio eletrônico de varredura com mouse controlado Sem 1x~600000x Magnificação A63.7080 17
A63.7080, A63.7081 Equipamento de consumíveis padrão
1 Filamento de emissão de campo Instalados em microscópio 1 Pc
2 Copo de amostra Diâmetro 13 mm 5 Pcs
3 Copo de amostra Dia.32mm 5 Pcs
4 Tela condutora de carbono de dupla face 6 mm 1 Pacote
5 Graxa de vácuo 　 10 Pcs
6 Tecido sem pelos 　 1 tubo
7 Pasta de polir 　 1 Pc
8 Caixa de amostras 　 2 sacos
9 Swab de algodão 　 1 Pc
10 Filtro de névoa de óleo 　 1 Pc
A63.7080, A63.7081 Ferramentas e peças normais
1 Fecho de hexágono interno 1.5 mm~10 mm 1 conjunto
2 Pinças Comprimento 100-120 mm 1 Pc
3 Parafusador com ranhuras 2 × 50 mm, 2 × 125 mm 2 peças
4 Torná-vite cruzado 2*125 mm 1 Pc
5 Tubo de ventilação limpo Dia.10/6.5mm ((Diâmetro exterior/Diâmetro interno) 5m
6 Valva de redução de pressão de ventilação Pressão de saída 0-0,6 MPa 1 Pc
7 Fornecimento de energia de cozimento interno 0-3A CC 2 peças
8 Fonte de alimentação UPS 10 kVA 2 peças

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