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OPTO-EDU A63.7190 300000x Critical Dimension Scanning Electron Microscope

OPTO-EDU A63.7190 Microscópio Eletrônico de Varredura de Dimensão Crítica 300000x

  • Tamanho da bolacha
    A63.7190-68: 6/8 Polegadas
  • Resolução
    2.5nm (Acc=800V)
  • Voltagens de aceleração
    0.5-1.6KV
  • Repetitividade
    Estática e dinâmica ± 1% ou 3 nm ((3 Sigma)
  • Corrente do feixe de sonda
    3 ~ 30 pA
  • Faixa de medição
    FOV 0,1-2,0 μm
  • Lugar de origem
    China
  • Marca
    CNOEC, OPTO-EDU
  • Certificação
    CE, Rohs
  • Número do modelo
    A63.7190
  • Documento
  • Quantidade de ordem mínima
    1 por cento
  • Preço
    FOB $1~1000, Depend on Order Quantity
  • Detalhes da embalagem
    Embalagem da caixa, para o transporte da exportação
  • Tempo de entrega
    5 a 20 dias
  • Termos de pagamento
    T/T, West Union, Paypal
  • Habilidade da fonte
    mês de 5000 PCes

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  • Compatível com Wafers de 6/8 de polegada Tamanho, Magnificação 1000x-300000x
  • Resolução 2,5 nm (Acc=800V), Tensões de Aceleração 500V-1600V
  • Repetitividade estática e dinâmica ± 1% ou 3nm ((3 Sigma), corrente de feixe de sonda 3 ~ 30pA
  • Projeto de sistema de transferência de wafer de alta velocidade adequado para chips de semicondutores de 3a geração
  • Sistemas avançados de electrónica óptica e processamento de imagem, incluindo chiller, bomba seca
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Um microscópio eletrônico de varredura de dimensão crítica (CD-SEM) é um SEM especializado usado para medir as dimensões de pequenas características em wafers de semicondutores, fotomascas e outros materiais.Estas medições são cruciais para garantir a precisão e a precisão dos dispositivos electrónicos fabricados.

 

- Não.Compatível com Wafers de 6/8 de polegada Tamanho, Magnificação 1000x-300000x

- Não.Resolução 2,5 nm (Acc=800V), Tensões de Aceleração 500V-1600V

- Não.Repetitividade estática e dinâmica ± 1% ou 3nm ((3 Sigma), corrente de feixe de sonda 3 ~ 30pA

- Não.Projeto de sistema de transferência de wafer de alta velocidade adequado para chips de semicondutores de 3a geração

- Não.Sistemas avançados de electrónica óptica e processamento de imagem, incluindo chiller, bomba seca

 
 
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Características fundamentais

Os CD-SEM utilizam um feixe de elétrons de baixa energia e têm uma calibração de ampliação melhorada para garantir medições precisas e repetíveis.e ângulos das paredes laterais dos padrões.

 
 
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Objetivo

Os CD-SEM são essenciais para a metrologia na indústria de semicondutores, ajudando a medir as dimensões críticas (CDs) dos padrões criados durante os processos de litografia e gravação.Os CDs referem-se aos menores tamanhos de características que podem ser fabricados e medidos de forma confiável em uma bolacha.

 
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Aplicações

Esses instrumentos são usados nas linhas de fabricação de dispositivos eletrônicos para garantir a precisão dimensional das várias camadas e características que compõem um chip.Também desempenham um papel crucial no desenvolvimento e controlo dos processos, ajudando a identificar e corrigir quaisquer problemas que possam surgir durante o processo de fabrico.

 

Importância

Sem CD-SEM, a microeletrônica moderna teria dificuldade em alcançar o alto nível de precisão e desempenho exigido pela indústria.São indispensáveis para garantir a fiabilidade e a funcionalidade dos dispositivos electrónicos modernos.

 
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Mudanças tecnológicas

À medida que as técnicas de litografia avançam e os tamanhos das peças continuam a diminuir, os CD-SEM estão em constante evolução para atender às demandas da indústria.Novas tecnologias e avanços no CD-SEM estão a ser desenvolvidos para enfrentar os desafios da medição de padrões cada vez mais complexos

 
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A63.7190 Microscópio eletrônico de digitalização de dimensão crítica (CDSEM)
Tamanho da bolacha A63.7190-68: 6/8 polegadas A63.7190-1212 polegadas.
Resolução 2.5nm (Acc=800V) 1.8nm (Acc-800V)
Voltagens de aceleração 0.5-1.6KV 0.3-2.0KV
Repetitividade Estática e dinâmica ± 1% ou 3 nm ((3 Sigma) Estática e dinâmica ± 1% ou 0,3 nm ((3 Sigma)
Corrente do feixe de sonda 3 ~ 30 pA 3 ~ 40 pA
Faixa de medição FOV 0,1-2,0 μm FOV 0,05 a 2,0 μm
Propagação > 20 wafers/hora, > 36 wafers/hora,
1 ponto/ficha, 1 ponto/ficha,
20 Chips/Wafer 20 Chips/Wafer
Magnificação 1Kx~300Kx 1Kx-500Kx
Precisão do estágio 0.5 μm
Fonte de elétrons Emitente de campo térmico Schottky

 
Comparação dos principais modelos CDSEM no mercado
Especificações Hitachi Hitachi Hitachi Opto-Edu Opto-Edu
S8840 S9380 S9380 II A63.7190-68 A63.7190-12
1. Tamanho da bolacha 6 polegadas/8 polegadas 8 polegadas/12 polegadas 8 polegadas/12 polegadas 6 polegadas/8 polegadas 12 polegadas.
2Resolução 5 nm (Acc=800V) 2 nm (Acc=800V) 2 nm (Acc=800V) 2.5nm (Acc=800V) 1.8nm (Acc=800V)
3Tensão de aceleração. 500-1300 V 300-1600 V 300-1600 V 500-1600 V 300-2000V
4Repetitividade (estática e dinâmica) ± 1% ou 5 nm ((3 sigma) ± 1% ou 2 nm ((3 sigma) ± 1% ou 2 nm ((3 sigma) ± 1% ou 3 nm ((3 sigma) ± 1% ou 0,3 nm ((3 sigma)
5. Intervalo Ip (corrente da sonda) 1 a 16 pA 3-50 pA 3-50 pA 3-30 pA 3-40 pA
6. Tamanho do FOV - 50 nm-2um 0.05-2um 0.1-2um 0.05-2um
7.Throughput 26 wafers/hora, 24 wafers/hora, 24 wafers/hora, > 20 wafers/hora, 36 wafers/hora,
1 ponto por ficha, 1 ponto por ficha, 1 ponto por ficha, 1 ponto por ficha, 1 ponto por ficha,
5 fichas/wafer 20 fichas/wafer 20 fichas/wafer 20 fichas/wafer 20 fichas/wafer