A microscopia eletrônica de varredura (SEM) é um meio de observação entre a microscopia eletrônica de transmissão (TEM) e a microscopia óptica.
Ele escaneia a amostra com um feixe de elétrons de alta energia e excita várias substâncias através da interação entre o feixe e a matéria.e re-imagem para alcançar o propósito de caracterizar a morfologia microscópica do materialSeguindo os objetivos de design de operação conveniente, imagem rápida e desempenho estável, a OPTO-EDU desenvolveu de forma independente um scanner de desktop de filamento de tungstênio. A63.7001 Microscópio eletrônico de varreduratem umadigitalização rápidavelocidade e uma largura de banda de aquisição de sinal de 10 M, que pode exibir amostras sem problemas e em tempo real no modo vídeo.e não há necessidade de etapas complexas como centrar o diafragmaApós focar e eliminar o astigmatismo, você pode tirar fotos diretamente.Só tens de arranjar uma mesa.Liga a energia, podes começar a trabalhar. |
Especificações principais: 1Tensão de aceleração: 5KV/10KV/15KV 2Tipo de arma de elétrons: filamento de tungstênio pré-alinhado, duração de vida de 100 horas, fácil de substituir pelo utilizador, lente de arma de dois estágios altamente integrada, sem necessidade de ajustar manualmente o diafragma da lente objetiva. 3. Magnificação ≥ 150000X; 4Resolução:≤10nm@15KV 5Detector: detector de elétrons secundário (SE), detector de retrodispersão quadrupla (BSE), 6. Estágio: 2 eixos XY motorizado estágio, 40x30mm móvel (40x40mm opcional); 7Tamanho máximo da amostra: 80x42x40 mm 8. Troca de amostra e tempo de bombeamento a vácuo elevado≤ 90s. 9Sistema de vácuo elevado: bomba molecular turbo integrada, bomba mecânica externa, vácuo na câmara de amostragem ≥ 1x10-1Pa, controlo totalmente automático; 10. Modo de vídeo ≥ 512x512 pixels, sem necessidade de digitalização de pequenas janelas. 11. Modo de varredura rápida: tempo de obtenção de imagem≤3s, 512x512 pixels. 12. Modo de varredura lenta: tempo de tomada de imagem≤40s, 2048x2048 pixels. 13Arquivo de imagem: BMP, TIFF, JPEG, PNG. 14Ajuste automático de brilho e contraste, focagem automática. 15Função de navegação: navegação por câmara óptica e câmara de cabine. 16Função de medição da imagem: distância, ângulo, etc. 17Incluindo computador e software, controle do mouse. 18Opcional: - Filamentos de tungsténio (20pcs/caixa) --EDS 19- Dimensão do microscópio: 283*553*505mm, dimensão da bomba mecânica 340*160*140mm |
Modelo | A63.7001 | A63.7002 | A63.7003 | A63.7004 | A63.7005 |
Resolução | 10nm@15KV | 6nm@18KV | 4nm@20KV | 3nm@20KV | 2.5nm@15KV |
Magnificação | 150000x | 200000x | 360000x | 360000x | 1000000x |
Arma de elétrons | Tungstênio | Tungstênio | Tungstênio | LaB6 | FEG de Schotty |
Voltagem | 5/10/15KV | 3-18KV | 3-20KV | 3-20KV | 1 a 15 KV |
Detector | EEB+EES | EEB+EES | EEB+EES | EEB+EES | EEB+EES |
CCD de navegação | CCD | CCD | CCD+câmara de cabine | CCD+câmara de cabine | CCD+câmara de cabine |
Tempo de vácuo | Anos 90 | Anos 90 | 30 anos | Anos 90 | 180s |
Sistema de vácuo | Bomba mecânica Bomba Molecular |
Bomba mecânica Bomba Molecular |
Bomba mecânica Bomba Molecular |
Bomba mecânica Bomba Molecular Bomba de iões |
Bomba mecânica Bomba Molecular Bomba de iões x2 |
Vacuum | Alto vácuo 1x10-1Pa |
Alto vácuo 1x10-1Pa |
Alto vácuo 1x10-1Pa |
Alto vácuo 5x10-4Pa |
Alto vácuo 5x10-4Pa |
Estágio | Estágio XY, 40x30/40x40 mm |
Estágio XY, 40x30/40x40 mm |
Estágio XY, 60x55 mm |
Estágio XY, 60x55 mm |
Estágio XY, 60x55 mm |
Precisão do estágio | - | Posição exata 5um | |||
Distância de trabalho | 5-35 mm | 5-35 mm | 5 a 73,4 mm | 5 a 73,4 mm | 5 a 73,4 mm |
Exemplar máximo | 80x42x40 mm | 80x42x40 mm | 100 x 78 x 68,5 mm | 100 x 78 x 68,5 mm | 100 x 78 x 68,5 mm |
Opcional | Filamentos de tungsténio 20 peças por caixa | Laboratório 6 Filamento | Lâmpada de emissão de campo | ||
EDS Oxford AZtecOne com XploreCompact 30 | |||||
- | Baixo vácuo 1-100 Pa | Baixo vácuo 1-30 Pa | |||
- | Módulo do eixo Z | 3 eixos de estágio, X 60 mm, Y 50 mm, Z 25 mm | |||
- | Módulo do eixo T | 3 Eixo de estágio, X 60 mm, Y 50 mm, T ± 20° | |||
- | - | 5 Eixo de estágio, X 90 mm, Y 50 mm, Z 25 mm, T ± 20°, R 360° | |||
- | - | Plataforma de absorção de choques, para 3 eixos, 5 eixos de estágio | |||
- | Modo de desaceleração 1-10KV para observar amostras não condutoras, apenas para EEB | ||||
- | Fase in situ da fábrica original, aquecimento, arrefecimento, alongamento, etc. | ||||
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